[디지털데일리 한주엽기자] 삼성전자가 섬서성 서안시를 중국 반도체(낸드플래시) 생산라인 건설지역으로 확정했다.

삼성전자는 2일 이사회를 열어 이 같은 안을 최종 확정했다. 또 중국 서안시 고신기술산업 개발구에 들어설 반도체 신규라인 건설을 위해 자본금 23억달러(2조5898억원)를 출자키로 결정했다.

삼성전자는 건물 건설 등 초기 23억달러 출자에 이어, 향후 수년 간 단계적으로 총 70억달러(7조8820억원)를 투자할 것이라고 밝혔다. 이는 반도체 관련 해외 단일 투자로는 역대 최대 규모다.

삼성전자는 중국 반도체 생산라인 건설지역으로 서안시를 최종 선정한 이유에 대해 주요 고객사 및 글로벌 IT기업의 생산, 연구 거점이 주변에 밀집되어 있어 요청에 신속하고 효율적으로 대응할 수 있기 때문이라고 밝혔다.

또한 우수인재 유치가 용이하고 전기와 용수 등 산업 인프라도 잘 갖춰져 있어 반도체 생산라인 건설지역으로는 최적이라는 판단을 내렸다고 덧붙였다.

삼성전자는 중국 측과 생산 및 고용 규모 등 세부 협상을 빠른 시일 내에 마무리 짓고, 연내 반도체 생산라인 건설에 착수, 2013년 말부터 10나노급 낸드 플래시를 본격 생산할 예정이라고 밝혔다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr


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