인텔 오하이오 팹 조감도

- 인텔, "오하이오 투자 규모, 반도체육성법 통과 여부에 달려"


[디지털데일리 정혜원 기자] 인텔이 미국 의회에 ‘반도체육성법(Chips Act)’ 통과를 촉구했다.

23일(현지시간) CNBC 보도에 따르면 인텔은 대변인을 통해 미국 오하이오주 콜럼버스시 외곽에 추진 중인 반도체 생산시설(팹) 건설이 미국 반도체육성법 통과 여부에 따라 지연되거나 규모가 축소될 수 있다고 발표했다.

인텔은 이날 “1월 발표에서 밝혔듯이 오하이오에서 우리의 확장 범위와 속도는 ‘반도체육성법’에서 지원하는 자금에 크게 좌우될 것이다”며 “하지만 불행하게도 반도체육성법 자금 지원이 우리가 예상했던 것보다 더 느리게 진행되고 있으며 언제 이뤄질지 아직도 모른다”고 밝혔다.

인텔은 올해 1월 오하이오 팹 건설에 1000억달러(약 130조원)가 필요할 것으로 추산하고 200억달러(약 26조원)를 먼저 투자하기로 약속했다. CNBC에 따르면 인텔의 투자 계획 일부에는 반도체육성법에 근거한 정부지원금이 투입된다.

인텔은 “이제 의회가 행동을 취해야 할 때이다”며 “그래야 인텔이 오랫동안 구상해온 속도와 규모로 반도체 제조업 리더십을 회복하고 탄력적 반도체 공급망을 구축하기 위한 프로젝트들을 추진할 수 있다”고 말했다.

CNBC에 따르면 인텔은 “올해 초 발표한 200억달러 투자에 여전히 전념하고 있지만 반도체육성법이 의회에서 통과되지 않을 경우 1000억달러 규모 투자는 불확실하다”고 전했다.

한편 미국 의회는 자국 내 반도체 생태계 강화를 위해 520억달러(약 68조원)를 지원하는 법안을 마련했다. 미국 하원이 올해 2월 미국경쟁법안을, 미국 상원이 작년 6월 미국혁신경쟁법안을 각각 처리했다. 하지만 상·하원 병합 심사 처리가 늦어지면서 법안 처리는 교착 상태에 빠졌다.


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