- 국내 첫 EUV 펠리클 생산라인 구축
- 2023년 양산 계획…국내 반도체 제조사 공급할 듯


[디지털데일리 김도현 기자] 반도체 소재사 에스앤에스텍이 극자외선(EUV) 펠리클 사업에 나선다.

11일 에스앤에스텍에 따르면 연내 경기 용인에 EUV 펠리클 공장을 완공할 예정이다. 200억원을 투입한다.

펠리클은 포토마스크를 보호하는 초박막 필름이다. 반도체 회로 패턴을 새기는 노광 공정에서 쓰인다. 펠리클은 포토레지스트(PR)를 바른 웨이퍼에 회로가 새겨진 포토마스크를 올리고 빛을 쬐는 단계에서 사용한다. 포토마스크 오염을 막는다.

에스앤에스텍은 투과율 90% 수준 EUV 펠리클을 개발한 것으로 알려졌다. 내년 양산 목표다. 고객사 평가를 통과할 경우 생산을 본격화할 방침으로 전해졌다. 그동안 EUV 펠리클은 일본 마쓰이가 주도했다. EUV 장비를 개발한 ASML와 협력했다.

한편 에스앤에스텍 EUV 펠리클은 국내 반도체 제조사 등이 활용할 전망이다. 국내 반도체 제조사는 그동안 펠리클 없이 EUV 기술을 이용했다. 펠리클이 없을 경우 포토마스크 사용 횟수가 줄어든다. 비용 절감에 도움이 될 것으로 보인다.


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