- 550억원 규모 시설자금 조달할 듯…EUV용 펠리클 개발 완료

[디지털데일리 김도현 기자] 에스앤에스텍이 극자외선(EUV) 소재 사업에 속도를 낸다. 고객사의 EUV 도입 확대에 따른 시장 수요 대응 차원이다.

28일 에스앤에스텍은 산업은행에서 550억원 규모 시설자금 한도승인을 받았다고 밝혔다.

에스앤에스텍은 블랭크마스크 및 펠리클 개발 및 생산 업체다. 블랭크마스크는 노광 공정 핵심인 포토마스크 원재료다. 블랭크마스크에 패턴을 노광하면 포토마스크가 되고 이를 반도체 웨이퍼에 올리고 빛을 쬐면 회로가 새겨진다. 펠리클은 포토마스크를 보호하는 초박막 필름 형태 소재다.

두 소재는 노광 기술이 불화아르곤(ArF)에서 극자외선(EUV)으로 전환하면서 변화가 필요해졌다. 에스앤에스텍은 최근 업계가 요구하는 투과율 90% 이상 EUV용 펠리클 개발을 완료했다. 현재 품질테스트를 해외업체와 준비 중이다. 에스앤에스텍은 EUV용 블랭크마스크도 개발에도 박차를 가하고 있다.

같은 맥락에서 에스앤에스텍은 지난 7월 EUV용 블랭크마스크 및 펠리클 기술 개발과 양산을 위한 신규 장비 투자를 시작했다. 이미 경기 용인에 관련 부지는 확보했다.

회사 관계자는 "이번 시설자금 한도 승인 결정은 EUV용 펠리클 양산 시설 및 EUV용 블랭크마스크 장비를 추가 확보하기 위한 것"이라며 "확보한 재원을 활용해 순차적으로 공장 및 클린룸, 기계장비 구매 등에 사용될 예정"이라고 말했다.

한편 에스앤에스텍은 지난 2002년 블랭크마스크를 국산화해 삼성전자, SK하이닉스뿐만 아니라 중국, 대만에 제품을 공급하고 있다. 반도체와 디스플레이용 블랭크마스크를 모두 생산하는 국내 유일한 기업이다.


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