- 새해 첫 경영행보, 반도체 3나노 공정기술 살펴

[디지털데일리 윤상호기자] 삼성전자 이재용 부회장이 과거와 절연을 통한 새로운 미래 개척을 강조했다.

2일 삼성전자(대표 김기남 김현석 고동진)는 이재용 삼성전자 부회장이 경기 화성사업장 반도체 연구소를 찾았다고 밝혔다.

이 부회장은 디바이스솔루션(DS)부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의했다. 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술 등을 살폈다. 3나노 반도체는 차세대 미세화 기술 ‘GAA(Gate-All-Around)‘를 적용했다. 5나노 제품 대비 칩 면적을 35% 이상 줄일 수 있다. 소비전력은 50% 감소할 수 있다. 성능(처리속도)은 약 30% 향상을 기대할 수 있다. 삼성전자는 작년 2030년 시스템반도체 1위 달성을 목표로 세웠다.

이 부회장은 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것이다. 잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자”라며 “우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자”고 강조했다.

<윤상호 기자>crow@ddaily.co.kr


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