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- 원익IPS ALD 장비 테스트 완료
- 구매부서에서 조율, 성사되면 주성에 타격

[디지털데일리 이수환기자] SK하이닉스가 원익IPS의 원자층증착(ALD) 장비 도입을 적극적으로 검토하고 있다. 지난해 하반기부터 시작한 장비 시험평가는 올해 1월 마무리됐고 구매부서에서 구체적인 조율이 이뤄지고 있다. 도입이 결정되면 주성엔지니어링 독점 구도가 깨지게 된다.

원익IPS 입장에서 플라즈마화학기상증착(PECVD) 장비에 이어 ALD 장비가 SK하이닉스에 도입되면 삼성전자 일변도의 매출 구도에 변화를 줄 수 있다. 지난해 원익IPS의 매출액은 6308억원, 영업이익은 1223억원이었다. 2016년 대비 각각 158.5%, 325.3% 늘어난 것으로 반도체 호황에 힘입어 올해 실적 전망도 밝다.

28일 업계에 따르면 SK하이닉스는 지난해 하반기부터 시작된 윈익IPS의 ALD 장비 시험평가를 마무리하고 구매부서에서 최종 조율에 들어간 것으로 전해졌다. 분위기 자체는 긍정적이다. 시험평가 자체가 도입을 어느 정도 염두에 두고 있기 때문이다.

ALD 장비의 적극적인 도입은 반도체 미세공정 한계와 밀접한 관련이 있다. 특히 재료에 대한 중요성이 크게 높아졌고, 이를 원자층 단위로 증착시키는 작업이 필요해졌다. ALD 장비만 해도 지난 2015년부터 오는 2020년까지 연평균성장률(CAGR)이 20% 이상을 기록할 전망이다. 같은 기간 동안 노광장비가 사용하는 재료의 CAGR은 9%에 그쳤다.

ALD 장비는 400℃ 이하 저온에서 정밀하게 박막을 제어할 수 있나 화학기상증착(CVD)이나 물리기상증착(PVD) 장비와 비교해 속도가 느리다. 재료마다 공정온도가 달라 하나의 장비에서 두 개 이상의 공정 진행이 어렵다. 그만큼 공정에 필요한 시간을 줄이기 위해서는 많은 수의 장비가 투입되어야 한다. 10나노 후반(1x) D램 양산에 필수적이라 SK하이닉스도 심혈을 기울일 수밖에 없다.

그동안 SK하이닉스는 주성엔지니어링 ALD 장비를 주로 사용했다. 원익IPS ALD 장비 도입을 적극적으로 검토하는 이유는 장비 공급망 다변화를 꾀함과 동시에 D램 미세공정 극복을 위해서다. 생산성 확보는 기본이다.

그동안 수율과 시간당 웨이퍼 처리량을 높이기 위해 세미 배치(Semi-Batch) 타입을 주로 사용했으나 재료의 특성과 소자 특성 확보를 위해서는 다양한 타입의 도입도 검토되어야 한다. 장비 투자 비용과 함께 웨이퍼 이송 시간의 증가를 최소화하기 위함으로 풀이된다. 원익IPS의 진입으로 주성에 맞춰져 있는 공정의 단점을 보완하고자 하는 목적도 있다고 봐야 한다.

일각에서는 주성 장비의 신뢰성이 낮아졌기 때문이라는 시각도 있다. 실제로 SK하이닉스에 공급된 일부 주성 장비에서 몇 가지 결함이 발생, 후속처리에 골치를 앓았다는 후문이다.

SK하이닉스 원익IPS의 ALD 장비를 도입하게 되면 양사의 실적은 희비가 엇갈릴 수 있다. 주성은 지난해 4분기 디스플레이 부문 매출액 감소로 시장 기대치를 밑도는 실적(매출액 583억원, 영업이익 73억원)을 기록한 바 있다. 윈익IPS의 경우 증권가가 내다본 올해 실적은 매출액 6900억원대, 영업이익 1500억원대다.

<이수환 기자>shulee@ddaily.co.kr



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